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发布:2024/5/4 15:16:53 来源:kaitezhang
PU聚氨酯,根据聚合反应生成物的不同,常用的分为硬质聚氨酯和软质聚氨酯。硬质聚氨酯的强度很高,韧性好,绝热性好,防水效果好,成型工艺简单,生产效率高;软质聚氨酯的性很好,吸音效果好,耐老化性能、抗化学介质能力等,综合力学性能远远超过PVC等材料。聚氨酯的聚合很方便,不仅可在常温常压条件下进行聚合反应,甚至可以进行现场聚合后直接发泡或喷涂、修补等施工。聚氨酯泡沫塑料广泛应用于汽车内饰和吸收振动的零部件上,如涂覆材料、聚氨酯硬质塑料板材、聚氨酯性体、座椅软泡沫材料、装饰件、沙发革、车顶饰品;应用 多的是各种软质和硬质的聚氨酯泡沫材料,它有隔振、隔音、降噪、保温隔热;PU还可制成车用聚氨酯涂料、粘结剂、密封剂等。


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日前,法国米其林轮胎橡胶公司按照其对商每3年进行复审的要求,对神马实业公司的组织机构、质量方针目标、体系流程、产品发、过程控制、产品检验程序等方面进行了严格的审核。神马 终以8分的综合评价,不仅保持了合格商的资格,还获得了米其林公司颁发的产品质量认证证书。米其林集团是世界的轮胎企业,该公司于1997年 访问神马,从此拉了双方合作的序幕。,神马获得了合格商的资格。言硅烷偶联剂KH_55是有机硅烷系列的一种,属改性的硅烷。广泛应用于氨基硅油的生产中,是性能极其优良的偶联剂。但由于其生产工艺较复杂,故其产品中含有较多的杂质,杂质不仅会降低产品的质量,且有可能严重影响到生产氨基硅油的质量。目前,对于KH_55的分子结构分析及杂质定性方面尚无报导,本文 利用GC/MS联用技术对此进行了研究、探索结果令人满意。验部分2.1仪器与试剂GC:12气相色谱仪(惠普分析仪器厂),CDMC_4A色 质联用仪;试剂:硅烷偶联剂KH_55(长沙凯门有机硅应用研究所),其它样品均为分析纯。析条件GC:SE_石英毛细管柱(25m×32mm×25μm);载气:高纯氮气;载气流量:5mL/min; 流量:4mL/min;空气流量:4mL/min;分流比:1∶1;进样口温度:25℃;检测器:FID;程序升温:1℃—16℃(5min);升温速率:4℃/min;进样量:.a2μl。GC/MS:石英毛细管柱HP_5(25m×.25mm×.25μm);载气:氦气;进样口温度:25℃;分流比1∶1;程序升温:5℃(保留3min)—2℃(保留5min);升温速率:6℃/min;自动进样量:1μL;溶剂: ;EI离子源:电子能量7eV;质量扫描范围:5_5amu;离子源温度:2℃;倍增电压:1682V;扫描速度:1amu/s。果与讨论3.1样品的GC/MS总离子流色谱图见,各组分的质谱图见。根据质谱裂解规律所得到的各组分的分子结构式见表1。各组分的GC/MS谱图,可以推知样品各组分的裂解途径如下:3.2.1主要成分c保留时间(RT)为17.9min,分子离子峰(m/z)为221(由于分子中含较多的胺基,所以分子离子峰强度较弱);次峰(m/z=175)为分子丢失一个CH3CH2OH(即M_46)所得,结构式为(CH3CH2O)2Si+CH2CH2CH2NH+;基峰(m/z=163)为分子丢失CH+2CH2CH2NH2(即M_58)所得,结构式为(CH3CH2O)3Si+;质谱峰(m/z=134)为基峰丢失CH3CH+2(163_29)所得;以质谱 CHCH3CH2O+、HSi+(OH)Si+(OH)[CH2Si(OH)3]+、(CH3CH2O)2Si+H,以上均为合理丢失。2杂质a的保留时间(RT)为9.61min,分子离子峰(m/z)为28,次峰(m/z=1 为质谱峰163丢失了、、乙氧基所得,均属合理丢失,基峰(m/z=193)结构式为(CH3CH2O)3SiOCH+2,质谱峰149结构式为(CH3CH2O)2Si+OCH3。质b的保留时间(RT)为11.25min,分子离子峰(m/z)为26,基峰(m/z=163) 的丢失原理与杂质a的相同,基峰(m/z=163)结构式为(CH3CH2O)3Si+。质d的保留时间(RT)为19.5min,分子离子峰(m/z)为24,基峰(m/z=163)为分子丢失一个丙基所得,质谱峰11979的裂解同上。质e的保留时间(RT)为19.32min,分子离子峰(m/z)为234,基峰(m/z=163)为分子丢失一个丁基所得,质谱峰11979的裂解同上,从杂质e的谱图可以看出,两者结构相似。质f的保留时间(RT)为27.22min,分子离子峰(m/z)为264,基峰(m/z=249)为分子丢失一个所得,结构式为[(CH3)2CHO]3SiOCH2CH3,质谱峰25为分子丢失[( 的裂解与上相同。质g的保留时间(RT)为36.51min,分子离子峰(m/z)为39,根据质谱裂解规律,次峰(m/z=234)分子结构式应为(CH3CH2O)3SiCH2CH2CH2N+CH3,基峰(m/z=188)应为次峰丢失乙氧基所得。论在KH-55的各杂质中,主要杂质b应为未反应完的原料,而杂质g均为反应过程中产生的副产物,它们的存在,都影响了产品的质量。与其他含有氨基的硅烷及胺类有机化合物一样,KH-55的分子离子峰的丰度比较低,而基峰也是由分子丢失一个胺基所形成的碎片峰,或分子在裂解后发生重排而形成的分子或离子。

 

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